Semicondutores e Microeletrônica

Semiconductor process and metrology tools need ultra-flat wafers, low-defect substrates and stable coatings. We deliver glass and quartz components with semiconductor-grade cleanliness and tolerances.

Produtos de aplicação

Equipamentos e sistemas típicos desta área:

Lithography & inspection tools

Illumination and imaging optics.

Wafer metrology & review

Transmission windows and reference flats.

Process equipment (dep & etch)

Viewports and insulating substrates.

Packaging & test systems

Carrier glass and alignment targets.

MEMS & sensor fabrication

Wafer-level substrates and capping glass.

Componentes ópticos que fornecemos

Fabricados ou revestidos conforme o seu desenho — clique para ver a família de produtos:

Fused silica and sapphire windows for semiconductor process equipment

O que esta aplicação exige

O processo de semicondutores e os equipamentos de metrologia impõem requisitos que estão mais próximos de um consumível de sala limpa do que de um componente óptico. Limpeza de partículas, liberação de gases, estabilidade dimensional e planicidade são frequentemente as preocupações do engenheiro de ferramentas; a curva de transmissão pode já estar fixada pelo comprimento de onda do processo e simplesmente deve ser mantida repetidamente de lote para lote.

A transmissão UV é o outro requisito definidor. À medida que os comprimentos de onda do processo se movem mais profundamente no ultravioleta, a escolha do substrato diminui drasticamente – o borosilicato comum para de transmitir onde o processo precisa funcionar, e apenas a sílica fundida ou a safira de grau UV servirão. A planicidade é importante em metrologia porque a superfície de referência define a medição, não apenas a imagem.

Especificações que recomendamos

ComponenteEspecificação típicaPor que
Janela de visualização e processoSílica fundida de grau UV, baixo OH, tolerância de espessura restritaTransmite o comprimento de onda do processo sem solarização ou perdas de absorção
Wafers de transporte e suporteBorossilicato ou vidro de exibição, TTV abaixo de 3 µmA planicidade controla a uniformidade do processo acima dela
Placas de referência metrológicaSílica fundida polida, planicidade de λ/10, verificada interferometricamenteA superfície de referência define a precisão do instrumento
Óptica de inspeçãoRevestimentos AR de banda larga em vidro e quartzoAlta transmissão para revisão de defeitos sem adição de imagens fantasmas

Modos de falha contra os quais projetamos

A contaminação por partículas que chegam com a óptica é a causa mais comum de uma peça rejeitada neste setor, e é por isso que limpamos e embalamos de acordo com um protocolo e não como uma etapa final. A névoa superficial e as marcas de água aparecem imediatamente na inspeção em campo escuro e são evitadas por meio de enxágue e secagem controlados, em vez de polimento adicional.

A estabilidade mecânica é a segunda preocupação. Quando uma janela é fixada em uma ferramenta e ciclada termicamente, pequenas variações de espessura ou planicidade se traduzem diretamente em variação óptica. Manter a tolerância de espessura firmemente no início é mais barato do que compensá-la na ferramenta.

Se a sua inspeção de entrada incluir limites de contagem de partículas ou liberação de gases, envie os critérios junto com a consulta. A embalagem e a limpeza são especificadas em relação a eles, e não presumidas.

Perguntas frequentes

Você pode fornecer material de qualidade UV para janelas com UV profundo?

Sim – a sílica fundida de grau UV com baixo teor de OH é a rota padrão, com safira onde a dureza ou a transmissão de infravermelho médio também são importantes.

A planicidade no nível do wafer é alcançável em peças revestidas?

O revestimento adiciona uma pequena contribuição figurativa. Medimos a frente de onda ou planicidade após a deposição, que é o número que rege o desempenho da ferramenta.

Precisa de um orçamento ou revisão técnica?

Envie seus desenhos, especificações-alvo ou requisitos de revestimento — um engenheiro óptico de verdade responde em até 24 horas.

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