Halbleiter & Mikroelektronik

Semiconductor process and metrology tools need ultra-flat wafers, low-defect substrates and stable coatings. We deliver glass and quartz components with semiconductor-grade cleanliness and tolerances.

Anwendungsprodukte

Typische Geräte und Systeme dieses Bereichs:

Lithography & inspection tools

Illumination and imaging optics.

Wafer metrology & review

Transmission windows and reference flats.

Process equipment (dep & etch)

Viewports and insulating substrates.

Packaging & test systems

Carrier glass and alignment targets.

MEMS & sensor fabrication

Wafer-level substrates and capping glass.

Optische Komponenten, die wir liefern

Nach Ihrer Zeichnung gefertigt oder beschichtet — klicken Sie, um die Produktfamilie zu sehen:

Fused silica and sapphire windows for semiconductor process equipment

Was diese Anwendung erfordert

Halbleiterprozess- und Messgeräte stellen Anforderungen, die denen eines Reinraum-Verbrauchsmaterials ähnlicher sind als denen einer optischen Komponente. Partikelsauberkeit, Ausgasung, Dimensionsstabilität und Ebenheit sind oft das, worüber sich der Werkzeugingenieur Sorgen macht; Die Transmissionskurve kann bereits durch die Prozesswellenlänge festgelegt sein und muss lediglich von Charge zu Charge wiederholbar eingehalten werden.

Die UV-Durchlässigkeit ist die andere entscheidende Anforderung. Je tiefer die Prozesswellenlängen in den ultravioletten Bereich vordringen, desto enger wird die Auswahl des Substrats – gewöhnliches Borosilikat hört dort auf zu übertragen, wo der Prozess funktionieren muss, und nur Quarzglas oder Saphir in UV-Qualität reichen aus. Ebenheit ist in der Messtechnik wichtig, da die Referenzoberfläche die Messung definiert, nicht nur das Bild.

Spezifikationen, die wir empfehlen

KomponenteTypische SpezifikationWarum
Ansichtsfenster und ProzessfensterQuarzglas in UV-Qualität, niedriger OH-Gehalt, enge DickentoleranzÜberträgt die Prozesswellenlänge ohne Solarisations- oder Absorptionsverluste
Träger- und StützwaferBorosilikat- oder Displayglas, TTV unter 3 µmDie Ebenheit steuert die Gleichmäßigkeit des darüber liegenden Prozesses
Referenzplatten für die MesstechnikPoliertes Quarzglas, Ebenheit bis λ/10, interferometrisch verifiziertDie Referenzfläche definiert die Genauigkeit des Instruments
InspektionsoptikBreitbandige AR-Beschichtungen auf Glas und QuarzHohe Transmission zur Fehlerprüfung ohne Hinzufügung von Geisterbildern

Fehlermodi, gegen die wir entwerfen

Die mit der Optik eintreffende Partikelverunreinigung ist in diesem Sektor die häufigste Ursache für ein Ausschussteil. Deshalb reinigen und verpacken wir nach einem Protokoll und nicht als letzten Schritt. Oberflächenschleier und Wasserflecken treten bei der Dunkelfeldprüfung sofort in Erscheinung und werden durch kontrolliertes Spülen und Trocknen und nicht durch zusätzliches Polieren verhindert.

Die mechanische Stabilität ist das zweite Anliegen. Wenn ein Fenster in ein Werkzeug eingespannt und thermisch zyklisch betrieben wird, führen kleine Abweichungen in der Dicke oder Ebenheit direkt zu optischen Abweichungen. Die Dickentoleranz von Anfang an eng beizubehalten ist günstiger, als sie im Werkzeug auszugleichen.

Wenn Ihre Eingangskontrolle Partikelzählungs- oder Ausgasungsgrenzwerte umfasst, senden Sie die Kriterien mit der Anfrage. Verpackung und Reinigung werden dabei eher spezifiziert als vorausgesetzt.

Häufig gestellte Fragen

Können Sie UV-geeignetes Material für Fenster mit tiefem UV-Schutz liefern?

Ja – Quarzglas in UV-Qualität mit niedrigem OH-Gehalt ist der Standardweg, bei Saphir kommt es auch auf Härte oder mittlere IR-Transmission an.

Ist bei beschichteten Teilen eine Ebenheit auf Waferebene erreichbar?

Die Beschichtung trägt einen kleinen Figurbeitrag bei. Wir messen die Wellenfront oder Ebenheit nach der Abscheidung. Dies ist die Zahl, die die Leistung des Werkzeugs bestimmt.

Angebot oder technische Prüfung nötig?

Senden Sie Ihre Zeichnungen, Zielspecifikationen oder Beschichtungsanforderungen — ein echter Optik-Ingenieur antwortet innerhalb von 24 Stunden.

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