이 애플리케이션이 요구하는 것
반도체 공정 및 계측 장비는 광학 부품보다는 클린룸 소모품에 더 가까운 요구 사항을 부과합니다. 입자 청결도, 가스 방출, 치수 안정성 및 평탄도는 공구 엔지니어가 걱정하는 경우가 많습니다. 투과 곡선은 이미 공정 파장에 의해 고정되어 있을 수 있으며 단순히 로트마다 반복적으로 유지되어야 합니다.
UV 투과는 또 다른 정의 요구 사항입니다. 공정 파장이 자외선 쪽으로 더 깊어짐에 따라 기판 선택이 급격히 좁아집니다. 일반 붕규산염은 공정이 필요한 곳에서 투과를 멈추고 UV 등급 용융 실리카 또는 사파이어만이 투과합니다. 이미지뿐만 아니라 기준 표면이 측정을 정의하기 때문에 평탄도는 계측에서 중요합니다.
권장사양
| 구성 요소 | 일반적인 사양 | 왜? |
|---|---|---|
| 뷰포트 및 프로세스 창 | UV 등급 용융 실리카, 낮은 OH, 엄격한 두께 허용 오차 | 태양열화 또는 흡수 손실 없이 공정 파장을 전송합니다. |
| 캐리어 및 지지 웨이퍼 | 붕규산염 또는 디스플레이 유리, 3 µm 미만의 TTV | 평탄도는 그 위 프로세스의 균일성을 제어합니다. |
| 계측 참조 플레이트 | 연마된 용융 실리카, 평탄도 λ/10, 간섭계로 검증됨 | 기준 표면은 기기의 정확도를 정의합니다. |
| 검사 광학 | 유리 및 석영의 광대역 AR 코팅 | 고스트 이미지를 추가하지 않고 결함 검토를 위한 높은 투과율 |
우리가 설계하는 실패 모드
광학 장치와 함께 도착하는 입자 오염은 이 부문에서 부품이 거부되는 가장 일반적인 원인입니다. 이것이 바로 우리가 최종 단계가 아닌 프로토콜에 따라 세척하고 포장하는 이유입니다. 표면 안개와 물 자국은 암시야 검사 시 즉시 나타나며 추가 광택 처리보다는 헹굼 및 건조를 제어하여 방지할 수 있습니다.
기계적 안정성은 두 번째 관심사입니다. 창이 도구에 고정되어 열적으로 순환되는 경우, 작은 두께 또는 평탄도 변화는 광학적 변화로 직접적으로 해석됩니다. 처음부터 두께 공차를 엄격하게 유지하는 것이 도구에서 이를 보정하는 것보다 저렴합니다.
자주 묻는 질문
원자외선 창용 UV 등급 재료를 공급할 수 있습니까?
예 — OH 함량이 낮은 UV 등급 용융 실리카가 표준 경로이며, 경도나 중간 IR 투과율도 중요한 사파이어가 사용됩니다.
코팅된 부품에서 웨이퍼 수준의 평탄도를 달성할 수 있습니까?
코팅은 작은 그림 기여도를 추가합니다. 우리는 증착 후 파면이나 평탄도를 측정하는데, 이는 도구의 성능을 좌우하는 수치입니다.